импульс пробоя оксидной плёнки

1. Григорев Електроимпулсная технология формирования...
   studfile.net

   По-видимому, аналогичные явления имеют место и в PASпроцессе. Начальное воздействие импульсами напряжения разрушает оксидные пленки и образует участки на поверхности частиц, по которым происходит дальнейшее контактное соединение между частицами.

2. Микродуговое оксидирование при импульсной поляризации...
   cyberleninka.ru

   где UKp - критическое напряжение, при котором на аноде наблюдается процесс искрения (свечение); dK - толщина оксидного слоя, сформированного до начала процесса искрения; U - потенциал формирования оксидного слоя.

3. Поведение разряда и диэлектрический пробой оксидных пленок...
   tr-page.yandex.ru

   Был введен осуществимый метод идентификации критического напряжения пробоя оксидной пленки. Были получены различные текущие переходные процессы импульсов напряжения, в зависимости от приложенного напряжения импульса и его длительности.

4. В качестве материала для исследования выбраны пластины из
   rep.bntu.by

   Видно, что максимальное значение напряжения пробоя достигается при плотности тока обработки 3 А/дм2. Это обусловлено повышен-ной толщиной оксидной пленки, большей ее однородностью и вы-сокой плотностью заполнения пор аморфной структуры.

5. Microsoft Word - _Титл_Пособие_ЭИП.doc
   dl.booksee.org

   Растровая электронная микроскопия образцов, получен-ных электроимпульсным спеканием, отчетливо показала разруше-ние оксидных пленок в сплавленных участках межчастичных мос-тиков и целостность оксидных пленок в остальных участках по-верхности частиц порошка.

6. Состав, структура и электрофизические свойства покрытий...
   cyberleninka.ru

   В силу высокого удельного электросопротивления оксидной пленки (р ~ 106-1016 Ом-см) основная доля поляризующего напряжения приходится на оксидный слой.

7. Образование и разрушение оксидных пленок
   ibn.idsi.md

   химической размерной обработки (ЭХРО) (хлоридных, нитратных и смешанных хлорид-нитратных с электропроводностью 0,15 См/см) значительная часть заряда (до 50%) расхо-дуется на образование пассивирующей оксидной пленки, имеющей полупроводниковый характер.

8. Формирование покрытий на вентильных металлах и сплавах...
   viam.ru

   напряжение внешнего источника в системе будет перераспределяться. соответственно свойствам оксидной пленки и границы оксид–электролит. Формируемый оксидный слой, как правило, химически неравномерен по.

9. 4. Виды пробоев эдп
   studfile.net

   Зеннеровский пробой (иногда в литературе встречается термин «пробой Зинера») возникает при высоких значениях напряженности электрического поля в ЭДП (Езен  7105 В/см) и сопровождается туннельным переходом валентных электронов в зону проводимости.

10. Электроимпульсное спекание - Импульсные способы спекания
    vuzlit.com

    Сущность процесса состоит в разряде электрической энергии, запасенной в конденсаторах, в результате чего высоковольтный импульс тока протекает через порошковую засыпку. При протекании тока через засыпку порошка оксидные пленки на поверхности частиц порошка...

Похожие запросы:

1. Всего 5


2. impulsi ru


3. импульс пробоя оксидной плёнки


4. impuls st ru


5. impol stanovanja si


6. innopolis university

Поиск предназначены только для ознакомительных целей!